Tantaal gesponnen trechters

Bij baanbrekende processen zoals halfgeleiderdampfase-epitaxy (Epitaxy), ionenimplantatie op hoge temperatuur (Ionenimplantatie) en ultra{2}hoogvacuümvloeistofregeling zijn de uniformiteit van de gasstroom in het stroomkanaal en de reflectie-efficiëntie van thermische straling van cruciaal belang. In het licht van dit soort taps toelopende conische of dubbele trechterstructuur is niet alleen het materiaalverlies groot, maar is het ook zeer gemakkelijk dat de lasnaad in het interne stroomkanaal de laminaire stroming (laminaire stroming) verstoort en lokale thermische spanningsconcentratie veroorzaakt.

In 2026 lanceren we een nieuwe generatie op maat gemaakte precisie-gesponnen tantaalcomponenten. Het product maakt gebruik van 99,95% elektronische-hoogwaardige-zuivere tantaalplaat als basismateriaal en wordt in één stap gevormd door een geavanceerd CNC Power Spinning-proces, dat perfect rekening houdt met de consistentie van de gradiëntcurve en de extreem hoge wanddikte.

I. Kerntechnologievoordelen (Elite Engineeringvoordelen)

Naadloze stromingsprofielen en nulwrijving (naadloze stromingsprofielen) Het concave boogoppervlak van de spiegel (goede reflectiviteit) kan bijvoorbeeld uitstekende aerodynamische prestaties en een extreem lage deeltjesaccumulatiesnelheid bieden bij gebruik als gasdeflector of warmtestralingsscherm.

Isotrope korrelstructuur en thermische schokbestendigheid: Tantaal is gevoelig voor verharding tijdens koud spinnen. Door de afwisselende technologie van "multi- lichtgewichtvervorming en tussenliggend ultra-hoogvacuümgloeien (UHV-gloeien)", elimineren we effectief de resterende vervormingsschuifspanning, zodat de gegoten onderdelen uitstekende taaiheid hebben en nooit zullen kruipen of kromtrekken bij thermische schokken boven de 1500 graden.

Assemblagelassen met hoge-precisie (CNC-puntlassen): Zoals weergegeven in de afbeelding, wordt het draaiende onderdeel nauwkeurig gemonteerd en gelast met een steunframe met vier- klauwringen. We passen een speciale puntlastechnologie toe met energiecontrole in micro-zones om fusie te bewerkstelligen terwijl de door de laswarmte beïnvloede zone (HAZ) tot op micronniveau wordt gecomprimeerd, waardoor herkristallisatie en verbrossing veroorzaakt door plaatselijke verwarming volledig worden geëlimineerd.

III. Strikte controle op de chemische samenstelling (chemisch profielgewicht%)

Om slipbreuk op de korrelgrens veroorzaakt door microscopische onzuiverheden tijdens het vervormen van het spinnen te voorkomen, hebben we harde kernbeperkingen geïmplementeerd voor gasvormige elementen die een sleutelrol spelen in de treksterkte:

Ta (zuiverheid van het belangrijkste element): groter dan of gelijk aan 99. 95%

O (zuurstof): kleiner dan of gelijk aan 0. 015% N (stikstof): kleiner dan of gelijk aan 0. 010% H (waterstof): kleiner dan of gelijk aan 0. 0015%

C (koolstof): kleiner dan of gelijk aan 0. 010% Fe (ijzer): kleiner dan of gelijk aan 0. 010% Nb (niobiumverontreiniging): kleiner dan of gelijk aan 0. 050%

IV. Geavanceerde verwerkingsstroom

Wafer-blanking en microscopische foutdetectie: CNC-wafelsnijden wordt uitgevoerd met ASTM B708 ​​hoge-zuiverheidsplaten, en 100% oppervlakte-wervelstroomdetectie wordt uitgevoerd om ervoor te zorgen dat er geen macroscopische delaminatiedefecten optreden.

Koudspinnen met meerdere-passages (metaalspinnen): op een speciale CNC-spinmachine wordt een speciale slijtvaste -rotor van een legering gebruikt om de pers laag voor laag in te halen om de vervormingssnelheid aan te passen.

Superkristallijn gloeien in hoog vacuüm: gloeien bij een vacuüm van 10-4Pa bij ongeveer 1100 graden om de korrels opnieuw in evenwicht te brengen en verharding te elimineren, gevolgd door de volgende subfijne spin.

Combinatie van interne steunonderdelen en puntlassen met micro-bundels: laserprecisiebewerking van het binnenbekledingsrooster of de ringonderdelen, in- bevestiging van de bevestiging ter plaatse en lassen met- lage warmte-inbreng.

Chemisch polijsten en ultrasoon ultra-schone, schone verpakking (leveringsstandaard van halfgeleiderkwaliteit).

V. Grensoverschrijdende-grensoverschrijdende-toepassingen (toepassingen met hoge-waarde)

Epitaxie-gasinlaten (Epitaxy-gasinlaten): In de MOCVD of hoge{0}} CVD-holte fungeert het als een sproeicollector, geleidekegel of venturi-keel voor corrosieve gassen met hoge- temperatuur.

Beam Line Components (Beam Line Components): In halfgeleider-ionenimplanteerders met hoge- energie dienen ze als hoge- stralingsbeschermingskegels om hoog-energie-elektronen/ionenbundelbombardementen te blokkeren.

Stralingsschermen voor hoog-vacuüm-hoge- ovens: warmte-isolatiehulzen voor observatiegaten in de kern of apparaten die de overstroming van vacuümleidingen blokkeren voor ultra-hoge- vacuümovens in laboratoria.