CIP en rolvormen van Ta10W tantaalkralen
Als de typische titaniumlegering is het kernmateriaal van Ta10W met tantaal als basismateriaal en met wolfraam als de belangrijkste legeringselementen, waarbij strikt de inhoud van de onzuiverheid wordt gecontroleerd om de stijfheid en mechanische eigenschappen bij hoge temperaturen te garanderen, de specifieke componenten zijn zoals hieronder:
| Elementencategorie | Symbool van element | Inhoudsbereik | Typische waarde | Opmerkingen |
| Basiselement | Ta | Evenwicht | ≈89.8% | Garandeer de basisdichtheid, corrosiebestendigheid-en hoge- temperatuurstabiliteit van de Ta-legering |
| Belangrijkste legeringselement | W | 9.0%~11.0% | 10% | Het kernintensiveringselement verbetert de sterkte bij hoge- temperaturen en de kruipweerstand. De inhoudsafwijking is kleiner dan of gelijk aan ±0,5% |
| Veel voorkomende onzuiverheidselementen | O | Minder dan of gelijk aan 0,04% | 0.03% | Strikt gecontroleerd om de vorming van oxide-insluiting te voorkomen, leidt tot een toename van de brosheid van de legering |
| N | Minder dan of gelijk aan 0,015% | 0.01% | Verminder de scheiding van nitriden om de ductiliteit onder kamertemperatuur en hoge temperaturen te garanderen. | |
| C | Minder dan of gelijk aan 0,01% | 0.008% | Voorkom dat de invloed van carbide op het vormvermogen van machines wordt uitgeoefend | |
| Fe | Minder dan of gelijk aan 0,01% | 0.006% | Vermijd het verminderen van de mechanische eigenschappen van de legering bij hoge- temperaturen en beperk de kristalgrens | |
| Ni | Minder dan of gelijk aan 0,005% | 0.003% | Traceer onzuiverheden uit de grondstof of verwerking, moet de inhoud strikt controleren | |
| Nb | Minder dan of gelijk aan 0,1% | 0.08% | Soortgelijke eigenschap met tantaal, op micro-schaal aanvaardbaar zonder duidelijke invloed op de gehele prestatie | |
| Si | Minder dan of gelijk aan 0,003% | 0.002% | In het geval van vorming van silicide met een laag smeltpunt en vermijd de afname van de thermische stabiliteit van de legering | |
| ma | Minder dan of gelijk aan 0,005% | 0.003% | Synergetisch met wolfraam, de noodzaak om de UCL te controleren vanwege de over-inhoud kan de ductiliteit verminderen | |
| Andere sporenonzuiverheden | ----- | Single Minder dan of gelijk aan 0,001%, Totaal Minder dan of gelijk aan 0,005% | ----- | Inclusief Cr/Cu/Zr etc. die afkomstig zijn van restanten van grondstoffen, geen toevoeging door handmatig werk |
2. Belangrijkste verschil tussen CIP en rolvormen
| Vergelijkingsdimensie | CIP | Rollend vormen |
| Belangrijkste voordelen |
1. De dichtheid van het lichaam is goed-verdeeld (met een tolerantie van minder dan of gelijk aan ±1%) met consistente prestaties na het sinteren. 2. De aanvankelijke hoge precisie van de sferische hoek (positieve regeling van de vormholte, de sferische hoek van het lichaam groter dan of gelijk aan 90%). 3. Gelijkmatige druk (200-300 MPa), geen gaten binnenin en geen defecthiërarchie). 4. Breed scala aan adpativiteit (Kraaldiameter 5-20 mm complexe afmeting produceerbaar). 5. Er is geen bindmiddel nodig om de vervuiling door ontvetten te voorkomen en de hoge zuiverheid van de Ta-bonen te garanderen. |
1. Met eenvoudige apparatuur en gemakkelijke bediening, met 30% -50% lagere productiekosten dan CIP. 2. Met een efficiënte productiviteit voor massaproductie kunnen er nog duizenden meer in één batch worden geproduceerd. 3. Uitstekende keuze voor de tantaalkralen met een kleine afmetingsvereiste (afmeting kleiner dan of gelijk aan 5 mm), gemakkelijk en snel te vormen en met een vereenvoudigde procedure. 4. Geen schimmelsporen op het kralenlichaam, met een glad uiterlijk en minder werk voor het volgende slijpen. |
| Belangrijkste nadelen |
1. Moet de gespecificeerde bolvormige rubberen mal aanpassen met hoge kosten en een verbouwing op de lange- termijn (1-2 dagen). 2. Aanzienlijke investeringen in apparatuur (de prijs van CIP Machine is 5-10 keer hoger dan die van de walserij). 3. Beperk de productie voor een enkele batch, de vormverhouding van het werkstuk is lager dan die van de walserij. 4. Meer problemen bij het afdichten van de matrijs voor grote diameter (> 15 mm), gemakkelijke voorvorm met ongelijke druk. |
1. Bindmiddel en de volgende ontvetbehandeling nodig. Resterende onzuiverheden beïnvloeden de zuiverheid van de tantaalbonen. 2. Ongelijke dichtheid van het kralenlichaam (hoge dichtheid in het oppervlak, terwijl een lagere dichtheid aan de binnenkant met tolerantie ± 5%), gemakkelijk uit vorm voor verder sinteren. 3. Lage precisie voor de sferische hoek (de sferische hoek slechts 75% -85%), moet nauwkeurig worden geslepen en herzien. 4. Alleen geschikt voor de kleine afmetingen en eenvoudige ballen, nauwelijks vormbaar voor de grote afmetingen bonen (> 5 mm). 5. Het bonenlichaam plakt gemakkelijk aan elkaar en heeft een grote maattolerantie (± 0,2 mm) en een hoog verspillingspercentage (10% -15%). |
| Toepassingsscenario's | Hoogwaardige tantaalkralen (luchtvaart en ruimteschip, halfgeleiders enz.), tantaalballen met grote afmetingen, de precisieproducten met strikte vereisten van dichtheid en sferische hoek. |
De reguliere precisie-tantaalbonen, massaproductie voor de kleine afmetingen, en de scenario's die gevoelig zijn voor de kosten en met matige prestaties (zoals de test-tantaalballen voor de algemene industrie). |
Sleutelsamenvatting
Op basis van de bovenstaande analyse van de verschillende productieprocedures voor tantaalbonen, kunnen we duidelijk de verschillen onderscheiden tussen CIP-tantaalkralen en walsvormende tantaalbonen, ongeacht de procedure, de kosten en toepassingsscenario's. We denken dus dat u een slimme keuze kunt maken voordat u de bestelling vrijgeeft om de gewenste soorten aan te vragen. Neem gerust contact met ons op via onderstaande bijgevoegde informatie.
Monica
Positie:Verkoopmanager
WhoedenApp:+86 182 9270 2722
E-mail:Cr-Re@titanmsgp.com
Populaire tags: Ta10W Tantaalkralen, China Ta10W Tantaalkralen fabrikanten, leveranciers, fabriek
